高真空管式炉TF1200-200-HV-T10
主要用于稀土制备、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、硬质合金、3D打印金属件（钛合金TC4、23钛等）真空热处理、真空钎焊等
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