纯水处理化学药剂的使用与防护措施
2017-03-08
电子信息行业作为新兴产业发展迅猛，其产值达万亿元上电子行业与纯净水关系密切，而且同步发展，电子产品的质量要求越高，要求水质的纯净程度越高。20世纪50年代末，电子管风行和半导体在国内刚浮现之时，制取纯净水对保证产品质量是重要环节，到80年代末制订的高纯水标准，代表了我国纯水制备的水平。
国家标准GB11446－1989《电子级水》将纯净水划分为五级，一级水电阻率应达18MΩ·cm，亦即电导率为0.056礢/cm；二级水电阻率15 MΩ·cm，电导率为0.067礢/cm；三级水电阻率10 MΩ·cm，电导率为0.1礢/cm；四级水电阻率≥2 MΩ·cm，电导率为≤0.5礢/cm；五级水电阻率≥0.5 MΩ·cm，电导率为≤2礢/cm。
除了通用而便于测量的电阻（导）率指标外，还对五个级别的水规定了不同粒径的微粒数，细菌个数。还规定了总有机碳（TOC）、二氧化硅、氯离子、钙、钾、钠、锌、铁、铜等的含量。
在电子元器件生产工艺中，除了对空气净化外，对操作环境和产品都要不断进行清洗。早期使用氟氯烃之类溶剂甚多，自为保护臭氧层限制和禁止破坏臭氧层物质的使用与排放以来，纯净水冲洗成了主要替代工艺，其使用量迅速增长的同时，对水的质量要求也不断提高，从而促进了纯水制备技术的发展。
为满足《电子级水》中一级水和二级水的质量要求，除了进行水的深度去离子处理外，还必须去除水中胶体物质（含有机物与胶体硅）、病毒和细菌。
使用地下水或城市自来水为原水，可以省去预处理设备，而直接使用高效过滤器与活性炭过滤器原水作初步净化。
微滤和超滤可以有效地除去水中颗粒物与胶体物质，满足GB11446－1989《电子级水》对一、二级水颗粒物、细菌和总有机碳（TOC）的要求。
反渗透装置与混床的配合可以满足《电子级水》对电导率的要求。例如某系统的反渗透装置之后设置了两级混合床离子交换器。其出水质量为，反渗透器出口水电导率5.6～8.1礢/cm；一级混合床出口水电导率0.09～0.12礢/cm，二氧化硅10礸/L；二级混合床出口水电导率（水温18℃）0.045～0.053礢/cm，二氧化硅3.6～5礸/L。
在膜过滤之后布置反渗透装置与电去离子深度脱盐系统，同样可以满足上述水质的电导率水平。多级的膜处理可以确保产品水无颗粒物，这对电子产品来说是重要的。可以预见，在电子行业中这种纯水制备系统将有广阔的发展天地。
《电子级水》规定的三级水使用化学除盐设备虽然能勉强使产品水电导率合格，但是难以保证胶体物质及颗粒物质合格。比较可靠的仍然是采取膜法处理，方能使水质全面达标。
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国家标准GB11446－1989《电子级水》将纯净水划分为五级，一级水电阻率应达18MΩ·cm，亦即电导率为0.056礢/cm；二级水电阻率15 MΩ·cm，电导率为0.067礢/cm；三级水电阻率10 MΩ·cm，电导率为0.1礢/cm；四级水电阻率≥2 MΩ·cm，电导率为≤0.5礢/cm；五级水电阻率≥0.5 MΩ·cm，电导率为≤2礢/cm。
除了通用而便于测量的电阻（导）率指标外，还对五个级别的水规定了不同粒径的微粒数，细菌个数。还规定了总有机碳（TOC）、二氧化硅、氯离子、钙、钾、钠、锌、铁、铜等的含量。
在电子元器件生产工艺中，除了对空气净化外，对操作环境和产品都要不断进行清洗。早期使用氟氯烃之类溶剂甚多，自为保护臭氧层限制和禁止破坏臭氧层物质的使用与排放以来，纯净水冲洗成了主要替代工艺，其使用量迅速增长的同时，对水的质量要求也不断提高，从而促进了纯水制备技术的发展。
为满足《电子级水》中一级水和二级水的质量要求，除了进行水的深度去离子处理外，还必须去除水中胶体物质（含有机物与胶体硅）、病毒和细菌。
使用地下水或城市自来水为原水，可以省去预处理设备，而直接使用高效过滤器与活性炭过滤器原水作初步净化。
微滤和超滤可以有效地除去水中颗粒物与胶体物质，满足GB11446－1989《电子级水》对一、二级水颗粒物、细菌和总有机碳（TOC）的要求。
反渗透装置与混床的配合可以满足《电子级水》对电导率的要求。例如某系统的反渗透装置之后设置了两级混合床离子交换器。其出水质量为，反渗透器出口水电导率5.6～8.1礢/cm；一级混合床出口水电导率0.09～0.12礢/cm，二氧化硅10礸/L；二级混合床出口水电导率（水温18℃）0.045～0.053礢/cm，二氧化硅3.6～5礸/L。
在膜过滤之后布置反渗透装置与电去离子深度脱盐系统，同样可以满足上述水质的电导率水平。多级的膜处理可以确保产品水无颗粒物，这对电子产品来说是重要的。可以预见，在电子行业中这种纯水制备系统将有广阔的发展天地。
《电子级水》规定的三级水使用化学除盐设备虽然能勉强使产品水电导率合格，但是难以保证胶体物质及颗粒物质合格。比较可靠的仍然是采取膜法处理，方能使水质全面达标。
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